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J-GLOBAL ID：200902000070332177   Reference number：91A0649930

Crack growth behavior of a normal-pressure-sintered silicon nitride compact in high-temperature environment.

常圧焼結窒化ケイ素の高温環境下におけるき裂進展挙動

Author (4)： UENO AKIRA (豊田工大) ,  KISHIMOTO HIDEHIRO (豊田工大) ,  KAWAMOTO HIROSHI (トヨタ自動車) ,  MURASAWA TETSUYA (豊田工大)
Material： 日本材料学会学術講演会前刷
Volume： 40th  Page： 249-251  Publication year： 1991 
JST Material Number： Y0052A  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： silicon nitride ,...

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JST classification (1)： Ceramic materials  (HC05040O)

Terms in the title (5)： 常圧焼結 ,  窒化ケイ素 ,  高温環境 ,  き裂進展 ,  挙動