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J-GLOBAL ID：200902000112961412   Reference number：90A0842737

Interface structure at molecular-beam-deposited SiO₂/Si(III).

Molecular Beam Deposition SiO₂/Si(III)の再配列構造

Author (5)： HIROSAWA ICHIRO (日本電気) ,  MIZUKI JUN'ICHIRO (日本電気) ,  AKIMOTO KOICHI (日本電気) ,  TATSUMI TOORU (日本電気) ,  MATSUI JUNJI (日本電気)
Material： 日本物理学会秋の分科会講演予稿集  (日本物理学会秋の分科会予稿集)
Volume： 1990  Issue： 2  Page： 487  Publication year： Oct. 1990 
JST Material Number： S0872A  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (3)： SiO2 ,  Si ,  再配列