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J-GLOBAL ID：200902000167263625   Reference number：92A0219874

Active to passive transition in the oxidation of silicon carbide at high temperature and low pressure in molecular and atomic oxygen.

高温で低圧の分子状酸素と原子状酸素存在下での炭化けい素の酸化における活性状態より不働態への転移

Author (4)： BALAT M (IMP-CNRS, Font-Romeu, FRA) ,  FLAMANT G (IMP-CNRS, Font-Romeu, FRA) ,  MALE G (IMP-CNRS, Font-Romeu, FRA) ,  PICHELIN G (IMP-CNRS, Font-Romeu, FRA)
Material： Journal of Materials Science  (J Mater Sci)
Volume： 27  Issue： 3  Page： 697-703  Publication year： Feb. 01, 1992 
JST Material Number： B0722A  ISSN： 0022-2461  CODEN： JMTSAS  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： silicon carbide ,...
Semi thesaurus term： pressure dependence

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JST classification (1)： Other noncatalytic reactions  (CB06070U)

Terms in the title (5)： 低圧 ,  分子状酸素 ,  原子状酸素 ,  炭化けい素 ,  酸化