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J-GLOBAL ID：200902000176621747   Reference number：92A0012040

Electron transport in a-Si:H at low temperatures.

Author (2)： NEBEL C E (Xerox Palo Alto Research Center, California, USA) ,  KOCKA J (Czech Academy of Sciences, Praha, CSK)
Material： Amorphous Silicon Technology - 1991  (Amorph Silicon Technol 1991)
Page： 563-568  Publication year： 1991 
JST Material Number： K19910640  ISBN： 1-55899-113-1  Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (1)： Si