Art

J-GLOBAL ID：200902001929434488   Reference number：89A0003520

W_xN_1-x alloys as diffusion barriers between Al and Si.

AlとSiの間の拡散障壁としてのW_xN_1-x合金

Author (5)： SO F C T (California Inst. Technology, CA, USA) ,  KOLAWA E (California Inst. Technology, CA, USA) ,  ZHAO X-A (California Inst. Technology, CA, USA) ,  PAN E T-S (California Inst. Technology, CA, USA) ,  NICOLET M-A (California Inst. Technology, CA, USA)
Material： Journal of Applied Physics  (Journal of General Physics and its Application to Other Sciences and to Industry)
Volume： 64  Issue： 5  Page： 2787-2789  Publication year： Sep. 01, 1988 
JST Material Number： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： PN junction ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=89A0003520&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=C0266A") }}

JST classification (2)： 半導体-半導体接触【’81~’92】  (BM03072N) ,  Diodes  (NC03050R)

Terms in the title (4)： Al ,  Si ,  拡散障壁 ,  合金