Art

J-GLOBAL ID：200902001940933054   Reference number：88A0086782

A heat transfer and wave optics analysis for radiative melting of thin silicon films.

薄膜シリコンの放射融解の熱伝達と光学的解析

Author (3)： GRIGOROPOULOS C P (Univ. Washington, WA, USA) ,  LEAN M H (Xerox Corp., NY, USA) ,  DOMOTO G A (Xerox Corp., NY, USA)
Material： ASME. HTD (American Society of Mechanical Engineers. Heat Transfer Div.)  (ASME HTD (Am Soc Mech Eng Heat Transf Div))
Volume： 69  Page： 35-45  Publication year： 1987 
JST Material Number： D0778B  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： silicon ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=88A0086782&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=D0778B") }}

JST classification (2)： Phase equilibrium,phase diagram of multicomponent systems(inorg. subs.)  (CB03015S) ,  Heat transfer accompanied with phase change  (PA02040V)

Terms in the title (7)： 薄膜 ,  シリコン ,  放射 ,  融解 ,  熱伝達 ,  光学 ,  解析