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J-GLOBAL ID：200902001969507801   Reference number：89A0165002

Integrated data conversion for the electron beam exposure system EX-7.

電子ビーム照射装置EX-7用の集積データ変換

Author (6)： KOYAMA K (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  IKENAGA O (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  ABE T (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  YOSHIKAWA R (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  TAKIGAWA T (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  WATANABE S (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
Material： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics Processing and Phenomena)
Volume： 6  Issue： 6  Page： 2061-2065  Publication year： Nov. 1988 
JST Material Number： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： lithography ,...

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JST classification (2)： Applications of electron beams and ion beams  (BD02070X) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (3)： 電子ビーム照射装置 ,  集積 ,  データ変換