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J-GLOBAL ID：200902001979442171   Reference number：92A0197867

Preparation and Optical Properties of Bismuth Titanate Films by ECR Plasma Sputtering.

ECRプラズマスパッタリング法によるチタン酸ビスマス膜の作製と光学特性

Author (5)： MASUMOTO HIROSHI (東北大 金材研) ,  GOTO TAKASHI (東北大 金材研) ,  MASUDA YOICHIRO (八戸工大) ,  BABA AKIRA (八戸工大) ,  HIRAI TOSHIO (東北大 金材研)
Material： 粉体および粉末冶金  (Journal of the Japan Society of Powder and Powder Metallurgy)
Volume： 39  Issue： 2  Page： 109-112  Publication year： Feb. 1992 
JST Material Number： F0691A  ISSN： 0532-8799  CODEN： FOFUA2  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： titanate ,...

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JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Reference (10)：

• 1) T. Takenaka and K. Sakata: Jpn. J. Appl. Phys., 19 (1980) 31.
• 2) W. J. Takei, N. P. Formigoni and M. H. Francombe: Appl. Phys. Lett, 15 (1969) 256.
• 3) Shu-Yau Wu: J. Appl. Phys., 50 (1979) 4314.
• 4) E. Kay, F. Parmigiani and W. Parrish: J. Vac. Sci. Technol., A5 (1) (1987) 44.
• 5) M. Matsuoka and K. Ono: 応用物理, 57 (1988) 1301.

Terms in the title (5)： ECRプラズマ ,  スパッタリング法 ,  チタン酸ビスマス ,  作製 ,  光学特性