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J-GLOBAL ID：200902001995964110   Reference number：91A0056984

Separation of exposure process on selective growth of GaAs/CaF₂ by electron beam exposure.

GaAs/CaF₂の電子線露光選択成長における分離露光プロセスの検討

Author (2)： TSUTSUI KAZUO (東京工大 総合理工学研究科) ,  FURUKAWA SEIJIRO (東京工大 総合理工学研究科)
Material： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
Volume： 51st  Issue： 3  Page： 1157  Publication year： Sep. 1990 
JST Material Number： Y0055A  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (5)： GaAs ,  CaF2 ,  電子線露光 ,  選択成長 ,  露光プロセス