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J-GLOBAL ID：200902002010503315   Reference number：84A0108495

Fabrication of nanometer metal structures by a combination of techniques of metal evaporation and E-beam nanolithography.

金属蒸着と電子ビームナノリソグラフィー両技術の組合わせによるナノメータ金属構造の製造

Author (2)： LEE K L (Cambridge Univ.) ,  AHMED H (Cambridge Univ.)
Material： IEEE Electron Device Letters  (IEEE Electron Device Lett)
Volume： 4  Issue： 7  Page： 243-245  Publication year： Jul. 1983 
JST Material Number： B0344B  ISSN： 0741-3106  CODEN： EDLEDZ  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： circuit pattern generation ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (6)： 金属蒸着 ,  電子ビーム ,  ナノリソグラフィー ,  組合わせ ,  ナノメータ ,  金属構造