Art

J-GLOBAL ID：200902002027417854   Reference number：84A0202473

A15-Nb₃Si synthesis using a new dual-target magnetron sputtering source.

2連ターゲット方式新型マグネトロンスパッタリング源を用いたA15-Nb₃Si合成法

Author (3)： TERADA A (Ibaraki Electrical Communication Lab.) ,  NAKAMURA K (Ibaraki Electrical Communication Lab.) ,  ASANO H (Ibaraki Electrical Communication Lab.)
Material： Proceedings of the International Ion Engineering Congress, 1983, Vol.2  (イオン工学に関する国際会議 1983,Vol.2)
Page： 969-974  Publication year： 1983 
JST Material Number： K19840044  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： niobium base alloy ,...
Semi thesaurus term： A15 structure

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=84A0202473&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=K19840044") }}

JST classification (2)： Metallic thin films  (BK14030T) ,  Superconducting materials  (BM04041W)

Terms in the title (3)： ターゲット ,  マグネトロンスパッタリング ,  合成法