Art

J-GLOBAL ID：200902002038062080   Reference number：92A0057462

Monitoring downstream particles in a single-wafer CVD oxide reactor.

一葉ウエハCVD酸化膜反応器中の下流での粒子モニタ

Author (3)： STERN J E (IBM General Technology Division, VT) ,  DOPP D J (IBM General Technology Division, NY) ,  WU J J (IBM Advanced Semiconductor Technology Center, NY)
Material： Microcontamination
Volume： 9  Issue： 11  Page： 17-19,56  Publication year： Nov. 1991 
JST Material Number： D0679B  ISSN： 0738-713X  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： wafer ,...

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JST classification (1)： Materials of solid-state devices  (NC03020K)

Terms in the title (6)： ウエハ ,  CVD ,  酸化 ,  膜反応器 ,  下流 ,  モニタ