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J-GLOBAL ID：200902002074721120   Reference number：90A0714835

Charge-up prevention process for e-beam direct writing with multilayer resist.

Author (5)： TONOOKA Y (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  SAKAMOTO K (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  HONDA T (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  MATSUMOTO H (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  IIDA Y (NEC Corp., Kanagawa, JPN)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 1263  Page： 199-208  Publication year： 1990 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

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