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J-GLOBAL ID：200902002094042997   Reference number：91A0740163

Estimation of the SOI Film Thicknesses and Impurity Density by C-V method.

C-V法によるSOI膜厚と不純物濃度の評価

Author (3)： YAMAZAKI HIROSHI (富士通研) ,  ANDO SATOSHI (富士通研) ,  HIJIYA SHIMPEI (富士通研)
Material： 電子情報通信学会大会講演論文集  (電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集)
Volume： 1991  Issue： Shuki Pt 5  Page： 5.75  Publication year： Sep. 1991 
JST Material Number： G0508A  ISSN： 1349-1369  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： SOI structure ,...

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JST classification (1)： Measurement,testing and reliability of solid-state devices  (NC03040G)

Terms in the title (4)： SOI ,  膜厚 ,  不純物濃度 ,  評価