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J-GLOBAL ID：200902002098010151   Reference number：85A0242308

Magneto-optical disk substrate prepared by reactive ion etching.

反応性イオンエッチングによる光磁気ディスク基板

Author (6)： OTA KENJI (シャープ中研) ,  HIROKANE JUNJI (シャープ中研) ,  INUI TETSUYA (シャープ中研) ,  TAKAHASHI AKIRA (シャープ中研) ,  DEKUCHI TOSHIHISA (シャープ中研) ,  OKAMOTO TAKAAKI (シャープ中研)
Material： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
Volume： 28  Issue： 2  Page： 77-81  Publication year： Feb. 1985 
JST Material Number： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： magnetooptical memory ,...
Semi thesaurus term： 反応性イオンスパッタリング ,...

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JST classification (3)： Electronic recording,magnetic recording,optical recording  (NC06020F) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Applications of plasma  (BJ02110K)

Reference (9)：

• 1) D. Chen, G. N. Otto, and F. M. Schmit : IEEE Trans. Magnetics, MAG-9, 2, (1973) 66.
• 2) 太田, 広兼, 片山, 山岡 : 日本応用磁気学会誌8 (1984) 93.
• 3) J. Braat and K. S. Immink : SPIE 420 (1983) 206.
• 4) 山本 : テレビジョン学会全国大会SI-2 (1981) 433
• 5) 出口, 奥田, 日向, 太田, 小林, 山岡 : 電子通信学会技術研究報告DPM83-53 (1983) 13.

Terms in the title (2)： 反応性イオンエッチング ,  光磁気ディスク基板