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J-GLOBAL ID：200902015480413937   Reference number：88A0206637

Preparation of photoresist polymer by a photoreactive monomer containing N,N-diethyldithiocarbamate group.

N,N-ジエチルジチオカルバマート基を含む光反応性単量体によるフォトレジスト高分子の製法

Author (3)： YAMASHITA K (Nagoya Inst. Technology, Nagoya, JPN) ,  NAKANO A (Nagoya Inst. Technology, Nagoya, JPN) ,  TSUDA K (Nagoya Inst. Technology, Nagoya, JPN)
Material： Journal of Applied Polymer Science  (J Appl Polym Sci)
Volume： 35  Issue： 2  Page： 465-473  Publication year： Feb. 05, 1988 
JST Material Number： C0467A  ISSN： 0021-8995  CODEN： JAPNAB  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： polymer ,...
Semi thesaurus term： photocrosslinking ,...

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JST classification (2)： 交互共重合【’81~’92】  (CG04031U) ,  Physical properties of polymer solids  (CG02024U)

Terms in the title (5)： ジエチルジチオカルバマート ,  反応性単量体 ,  フォトレジスト ,  高分子 ,  製法