Art

J-GLOBAL ID：200902015489409258   Reference number：81A0427098

Preparation of hydrogenated amorphous silicon films by ion beam sputtering.

イオンビームスパッタリングによる水素化非晶質シリコン膜の作成

Author (4)： SARAIE J (Kyoto Univ.) ,  KOBAYASHI M (Kyoto Univ.) ,  FUJII Y (Kyoto Univ.) ,  MATSUNAMI H (Kyoto Univ.)
Material： Thin Solid Films
Volume： 80  Issue： 1/3  Page： 169-176  Publication year： Jun. 19, 1981 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： ion beam ,...

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JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Terms in the title (4)： イオンビームスパッタリング ,  水素化 ,  非晶質 ,  シリコン膜