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J-GLOBAL ID：200902015497648571   Reference number：90A0152838

Thermodynamic calculation of the two phased deposition domains with SiC in the Si-Ti-C-Cl-H chemical system.

Si-Ti-C-Cl-H系におけるSiCに関する二相蒸着領域の熱力学的計算

Author (3)： TOUANEN M (I.M.P.-C.N.R.S., Perpignan, FRA) ,  TEYSSANDIER F (I.M.P.-C.N.R.S., Perpignan, FRA) ,  DUCARROIR M (I.M.P.-C.N.R.S., Perpignan, FRA)
Material： Journal de Physique. Colloque  (J Phys Colloq)
Volume： 50  Issue： C5 Suppl 5  Page： C5-105-C5-113  Publication year： May. 1989 
JST Material Number： A0743B  ISSN： 0449-1947  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： France (FRA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： chemical vapor deposition ,...

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JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Ceramic coating to metallic materials  (YC02050V)

Terms in the title (7)： Si ,  Ti ,  Cl ,  SiC ,  蒸着 ,  熱力学 ,  計算