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J-GLOBAL ID：200902015639729752   Reference number：91A0563482

Chemical structure of thermal oxides studied by angle resolved XPS.

角度分解XPSによる薄いシリコン熱酸化膜の構造解析

Author (8)： SAKUSABE KEN'ICHI (武蔵工大 工) ,  HAYASHI MASAMI (武蔵工大 工) ,  MORIKAWA YOSUKE (武蔵工大 工) ,  SUGIYAMA KAZUHISA (武蔵工大 工) ,  MORIKI KAZUNORI (武蔵工大 工) ,  MORITA MIZUHO (東北大 工) ,  OMI TADAHIRO (東北大 工) ,  HATTORI TAKEO (武蔵工大 工)
Material： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
Volume： 38th  Issue： Pt 2  Page： 662  Publication year： Mar. 1991 
JST Material Number： Y0054A  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (5)： 分解 ,  XPS ,  シリコン ,  熱酸化膜 ,  構造解析