Art

J-GLOBAL ID：200902015661443250   Reference number：82A0457467

Transport profiles, the influence of internal stress and potential fluctuations in thin silicon films on sapphire.

サファイア上のシリコン薄膜の輸送プロフィールとそれへの内部応力およびポテンシャルのゆらぎの影響

Author (3)： LEE J-H (Inst. National Polytechnique Grenoble, France) ,  CRISTOLOVEANU S (Inst. National Polytechnique Grenoble, France) ,  CHOVET A (Inst. National Polytechnique Grenoble, France)
Material： Thin Solid Films
Volume： 89  Issue： 1  Page： 13-18  Publication year： Mar. 05, 1982 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： SOS structure ,...
Semi thesaurus term： conduction band

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JST classification (2)： 金属-絶縁体-半導体構造【’81~’92】  (BM03074V) ,  Electronic structure of surfaces  (BM02080J)

Terms in the title (7)： サファイア ,  シリコン薄膜 ,  輸送 ,  プロフィール ,  内部応力 ,  ポテンシャル ,  ゆらぎ