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J-GLOBAL ID：200902015731884217   Reference number：86A0167921

Soft X-ray photoemission study of the silicon-fluorine etching reaction.

けい素-ふっ素の腐食反応の軟X線光電子放出による研究

Author (3)： MCFEELY F R (IBM, New York) ,  MORAR J F (IBM, New York) ,  HIMPSEL F J (IBM, New York)
Material： Surface Science  (Surface Science Letters)
Volume： 165  Issue： 1  Page： 277-287  Publication year： Jan. 1986 
JST Material Number： C0129B  ISSN： 0039-6028  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： silicon ,...

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JST classification (2)： Basic corrosion theory and corrosion test  (WB03020Q) ,  Electron spectroscopy  (BM09060K)

Terms in the title (6)： けい素 ,  ふっ素 ,  腐食 ,  軟X線 ,  光電子放出 ,  研究