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J-GLOBAL ID：200902015734302294   Reference number：91A0947597

Rapid thermal oxidation of Gesi strained layers.

Author (5)： NAYAK D K (Univ. California, CA) ,  KAMJOO K (Univ. California, CA) ,  PARK J S (Univ. California, CA) ,  WOO J C S (Univ. California, CA) ,  WANG K L (Univ. California, CA)
Material： Epitaxial Heterostructures  (Epitaxial Heterostruct)
Page： 521-526  Publication year： 1990 
JST Material Number： K19910631  ISBN： 1-55899-087-9  Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (1)： RaPID