Art

J-GLOBAL ID：200902019034854887   Reference number：90A0741345

X-ray characterisation of residual surface strains after polishing of silicon wafers.

けい素ウエハ研摩後の残留表面ひずみのX線による特性化

Author (3)： HART L (Univ. Warwick, GBR) ,  BOWEN D K (Univ. Warwick, GBR) ,  FISHER G R (Univ. Warwick, GBR)
Material： Advances in X-Ray Analysis  (Adv X-Ray Anal)
Volume： 33  Page： 55-60  Publication year： 1990 
JST Material Number： H0119C  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： silicon ,...
Semi thesaurus term： silica

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JST classification (2)： X-ray diffraction methods  (BK01020I) ,  Crystal structure of nonmetallic elements and its compounds  (BK07010N)

Terms in the title (6)： けい素ウエハ ,  研摩 ,  残留 ,  表面ひずみ ,  X線 ,  特性化