Art

J-GLOBAL ID：200902023336814660   Reference number：91A0776294

Single Component-Chemically Amplified Resist Materials for Electron-beam and X-ray Lithography.

Author (8)： NOVEMBRE A E (AT&T Bell Lab., NJ) ,  TAI W W (AT&T Bell Lab., NJ) ,  KOMETANI J M (AT&T Bell Lab., NJ) ,  HANSON J E (AT&T Bell Lab., NJ) ,  NALAMASU O (AT&T Bell Lab., NJ) ,  TAYLOR G N (AT&T Bell Lab., NJ) ,  REICHMANIS E (AT&T Bell Lab., NJ) ,  THOMPSON L F (AT&T Bell Lab., NJ)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 1466  Page： 89-99  Publication year： 1991 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)