Art

J-GLOBAL ID：200902051316629860   Reference number：86A0138170

High rate and low temperature deposition of Co-Cr films by exposed pole magnetron co-sputtering system.

EP型マグネトロン同時スパッタリング装置を用いたCo-Cr膜の高速低温蒸着

Author (4)： TAKAHASHI T (Toyama Univ.) ,  MIYATA T (Toyama Univ.) ,  YOSHIDA J (Toyama Univ.) ,  HATA T (Kanazawa Univ.)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters & Express Letters)
Volume： 24  Issue： 9  Page： L752-L754  Publication year： Sep. 1985 
JST Material Number： F0599B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： magnetron sputtering ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=86A0138170&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=F0599B") }}

JST classification (2)： Metallic thin films  (BK14030T) ,  Magnetic domain and magnetization processes of metals  (BM06112D)

Terms in the title (6)： マグネトロン ,  同時スパッタリング ,  CO ,  Cr ,  低温 ,  蒸着