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J-GLOBAL ID：200902131024236322   Reference number：96A0895859

Rapid solid phase crystallization of nanocrystalline silicon deposited by electron cyclotron plasma chemical vapor deposition.

電子サイクロトロンプラズマ化学蒸着で蒸着したナノ結晶シリコンの急速固相結晶化

Author (5)： HOLGADO S (Univ. Autonoma de Madrid, Madrid, ESP) ,  MARTINEZ J (Univ. Autonoma de Madrid, Madrid, ESP) ,  GARRIDO J (Univ. Autonoma de Madrid, Madrid, ESP) ,  MORANT C (Univ. Autonoma de Madrid, Madrid, ESP) ,  PIQUERAS J (Univ. Autonoma de Madrid, Madrid, ESP)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 69  Issue： 13  Page： 1873-1875  Publication year： Sep. 23, 1996 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： plasma CVD ,...

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JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Terms in the title (7)： 電子 ,  サイクロトロン ,  プラズマ化学蒸着 ,  蒸着 ,  ナノ結晶シリコン ,  固相 ,  結晶化