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J-GLOBAL ID：200902131042534292   Reference number：97A0220043

On endpoint detection of plasma etching via optical emission interferometry.

発光干渉測定によるプラズマエッチングの終点検出

Author (3)： WONG K S (MIT, MA) ,  BONING D S (MIT, MA) ,  SAWIN H H (MIT, MA)
Material： Proceedings of the 11th International Symposium on Plasma Processing, 1996  (Proc 11th Int Symp Plasma Process 1996)
Page： 210-221  Publication year： 1996 
JST Material Number： K19970054  ISBN： 1-56677-164-1  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： plasma etching ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (3)： 干渉測定 ,  プラズマエッチング ,  終点検出