Art

J-GLOBAL ID：200902165112394231   Reference number：95A0893227

Reconstructed Si(111) Surface Obtained by Electron Beam Heating Using a Conventional Transmission Electron Microscope.

通常の透過型電子顕微鏡を用いた電子ビーム加熱によって得られたSi(111)表面の再構成

Author (1)： TOMITA M (NIT Interdisciplinary Res. Lab., Tokyo, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters & Express Letters)
Volume： 34  Issue： 9B  Page： L1224-L1226  Publication year： Sep. 15, 1995 
JST Material Number： F0599B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： electron irradiation ,...
Semi thesaurus term： electron beam heating ,...

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JST classification (1)： Surface structure of semiconductors  (BK15030A)

Reference (11)：

• REIMER, L. Transmission Electron Microscopy. 1984, 421
• HUMPHREYS, C. J. Scanning Microscopy Suppl. 1990, 4, 185
• UGARTE, D. Nature. 1992, 359, 707
• TOMITA, M. Proc.13th Int.Cong.on Electron Microscopy. 1994, 2A, 777
• MONCH, W. Semiconductor Surfaces and Interfaces. 1993, 221

Terms in the title (4)： 透過型電子顕微鏡 ,  電子ビーム加熱 ,  Si ,  再構成