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J-GLOBAL ID：200902165129318830   Reference number：94A0518296

Growth of diamond film using microwave plasma CVD technique.

マイクロ波プラズマCVD法を使ったダイヤモンド薄膜の成長について

Author (5)： MURAKAMI RIICHI (徳島大 工) ,  INABA TATSUICHI (徳島大 工) ,  TAGAWA KEN'ICHI (徳島大 大学院) ,  UEHARA MASAHIRO (徳島大 大学院) ,  MURASHITA HIROKUNI (徳島大 大学院)
Material： 日本材料学会学術講演会講演論文集  (Proceedings of the JSMS Annual Meetings)
Volume： 43rd  Page： 127-128  Publication year： 1994 
JST Material Number： Y0052A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： plasma CVD ,...
Semi thesaurus term： マイクロ波プラズマCVD ,...

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JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Terms in the title (3)： マイクロ波プラズマCVD ,  ダイヤモンド薄膜 ,  成長