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J-GLOBAL ID：200902165133895532   Reference number：94A0432002

Epitaxial growth, structure and properties of Ni films grown on MgO(100) by d.c. bias sputter deposition.

dcバイアススパッタ蒸着でMgO(100)上に成長させたNi膜のエピタキシャル成長,構造と性質

Author (7)： QIU H (Univ. Electro-Communications, Tokyo, JPN) ,  KOSUGE A (Univ. Electro-Communications, Tokyo, JPN) ,  MARUYAMA H (Toyo Univ., Saitama, JPN) ,  ADAMIK M (Research Inst. Technical Physics, Hungarian Academy of Sciences, Budapest, HUN) ,  SAFRAN G (Research Inst. Technical Physics, Hungarian Academy of Sciences, Budapest, HUN) ,  BARNA P B (Research Inst. Technical Physics, Hungarian Academy of Sciences, Budapest, HUN) ,  HASHIMOTO M (Univ. Electro-Communications, Tokyo, JPN)
Material： Thin Solid Films
Volume： 241  Issue： 1/2  Page： 9-11  Publication year： Apr. 01, 1994 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： sputtered deposition ,...
Semi thesaurus term： 金属-セラミック系 ,...

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JST classification (1)： Metallic thin films  (BK14030T)

Terms in the title (8)： DC ,  バイアス ,  スパッタ蒸着 ,  MgO ,  成長 ,  Ni ,  エピタキシャル成長 ,  性質