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J-GLOBAL ID：200902165152395052   Reference number：94A0476015

Surface potential measurement of photo-resist in negative ion implantation with secondary electron energy.

二次電子エネルギー分析による負イオン注入時のフォトレジスト表面電位測定

Author (9)： TOYOTA YOSHITAKA (京大 工) ,  NAGUMO SHOJI (京大 工) ,  ICHIHARA CHIKARA (京大 工) ,  TSUJI HIROSHI (京大 工) ,  GOTO YASUHITO (京大 工) ,  ISHIKAWA JUNZO (京大 工) ,  SAKAI SHIGEKI (日新電機) ,  TANJO MASAYASU (日新電機) ,  MATSUDA KOJI (日新電機)
Material： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
Volume： 41st  Issue： Pt 2  Page： 553  Publication year： Mar. 1994 
JST Material Number： Y0054A  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (5)： 二次電子 ,  エネルギー分析 ,  イオン注入 ,  フォトレジスト ,  表面電位