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J-GLOBAL ID：200902165191978774   Reference number：98A0000794

Electron attachment rate in C4F8 plasma.

C₄F₈プラズマ中の電子付着速度

Author (4)： OYA YOSHINOBU (名古屋大 工) ,  HIROSE SATOSHI (名古屋大 工) ,  KONO AKIHIRO (名古屋大) ,  GOTO TOSHIO (名古屋大 工)
Material： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
Volume： 58th  Issue： 1  Page： 97  Publication year： Oct. 1997 
JST Material Number： Y0055A  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (2)： プラズマ ,  電子付着