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J-GLOBAL ID：200902165214056101   Reference number：95A0033179

Study of Hillock Formation Mechanism in Passivated Aluminum-alloy Thin Films.

アルミニウム合金薄膜における表面微小隆起発生メカニズムの解析

Author (3)： NAKAJIMA TAKASHI (日立 機械研) ,  MIURA HIDEO (日立 機械研) ,  NISHIMURA ASAO (日立 機械研)
Material： 日本機械学会計算力学講演会講演論文集  (日本機械学会計算力学講演会講演概要集)
Volume： 7th  Page： 302-303  Publication year： Nov. 1994 
JST Material Number： L0203A  ISSN： 1348-026X  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： metallic thin film ,...

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JST classification (1)： Semiconductor integrated circuit  (NC03162T)

Terms in the title (6)： アルミニウム ,  合金薄膜 ,  微小 ,  隆起 ,  発生メカニズム ,  解析