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J-GLOBAL ID：200902212417523463   Reference number：03A0425562

粉末ターゲットを用いたスパッタリング法で生成したGaN膜の残留応力評価

Author (3)： KUSAKA KAZUNARI (徳島大 工) ,  EI TAKAO (徳島大 工) ,  TOMINAGA KIKUO (徳島大 工)
Material： 日本材料学会学術講演会講演論文集  (Proceedings of the JSMS Annual Meetings)
Volume： 52nd  Page： 63-64  Publication year： May. 16, 2003 
JST Material Number： Y0052A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

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JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Terms in the title (6)： 粉末 ,  ターゲット ,  スパッタリング法 ,  GaN ,  残留応力 ,  評価