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J-GLOBAL ID：200902212418076444   Reference number：06A0674421

Resistivity scaling in single-walled carbon nanotube films patterned to submicron dimensions

サブミクロンサイズにパターン形成した単層カーボンナノチューブでの電気抵抗率スケーリング

Author (6)： BEHNAM Ashkan (Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. of Florida, Gainesville, Florida 32611) ,  NORIEGA Leila (Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. of Florida, Gainesville, Florida 32611) ,  CHOI Yongho (Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. of Florida, Gainesville, Florida 32611) ,  WU Zhuangchun (Dep. of Physics, Univ. of Florida, Gainesville, Florida 32611) ,  RINZLER Andrew G. (Dep. of Physics, Univ. of Florida, Gainesville, Florida 32611) ,  URAL Ant (Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. of Florida, Gainesville, Florida 32611)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 89  Issue： 9  Page： 093107-093107-3  Publication year： Aug. 28, 2006 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *carbon ,...
Semi thesaurus term： micopatterning ,...

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JST classification (2)： Atomic and molecular clusters  (BH09030O) ,  Electric conduction in crystalline semiconductors  (BM03043X)

Terms in the title (5)： サブミクロンサイズ ,  パターン形成 ,  単層カーボンナノチューブ ,  電気抵抗率 ,  スケーリング