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J-GLOBAL ID：200902212424785830   Reference number：03A0794549

Small angle x-ray scattering for sub-100 nm pattern characterization

100nm以下のパターンキャラクタリゼーションのための小角X線散乱

Author (8)： JONES R L (NIST Polymers Div., Maryland) ,  HU T (NIST Polymers Div., Maryland) ,  LIN E K (NIST Polymers Div., Maryland) ,  WU W-L (NIST Polymers Div., Maryland) ,  KOLB R (ExxonMobil Res. and Engineering Co., New Jersey) ,  CASA D M (Argonne National Lab., Illinois) ,  BOLTON P J (Shipley Co., Inc., Massachusetts) ,  BARCLAY G G (Shipley Co., Inc., Massachusetts)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 83  Issue： 19  Page： 4059-4061  Publication year： Nov. 10, 2003 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *small angle X-ray scattering ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (2)： キャラクタリゼーション ,  小角X線散乱