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J-GLOBAL ID：200902212487451354   Reference number：03A0509414

High-resolution investigation of atomic interdiffusion during Co/Ni/Si phase transition

Co/Ni/Si相転移における原子相互拡散の高分解能研究

Author (4)： ALBERTI A (IMM, CNR, Catania, ITA) ,  BONGIORNO C (IMM, CNR, Catania, ITA) ,  LA VIA F (IMM, CNR, Catania, ITA) ,  SPINELLA C (IMM, CNR, Catania, ITA)
Material： Journal of Applied Physics  (Journal of General Physics and its Application to Other Sciences and to Industry)
Volume： 94  Issue： 1  Page： 231-237  Publication year： Jul. 01, 2003 
JST Material Number： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： multilayer film ,...

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JST classification (1)： Metallic thin films  (BK14030T)

Terms in the title (8)： CO ,  Ni ,  Si ,  相転移 ,  原子 ,  相互拡散 ,  高分解能 ,  研究