Art

J-GLOBAL ID：200902212490864007   Reference number：06A0448527

Planarization Efficiency of Electrochemical Mechanical Deposition and Its Dependence on Process Parameters

電気化学機械析出の平坦化効率およびプロセスパラメータに対するの依存性

Author (4)： BASOL Buelent M. (ASM NuTool, Inc., California, USA) ,  ERDEMLI Serkan (ASM NuTool, Inc., California, USA) ,  UZOH Cyprian E. (ASM NuTool, Inc., California, USA) ,  WANG Tony (ASM NuTool, Inc., California, USA)
Material： Journal of the Electrochemical Society  (J Electrochem Soc)
Volume： 153  Issue： 3  Page： C176-C181  Publication year： 2006 
JST Material Number： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *VLSI ,...
Semi thesaurus term： ECMD【電着】 ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=06A0448527&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=C0285A") }}

JST classification (3)： Electrochemical reaction  (CB07050F) ,  Solid-liquid interface  (CB12050B) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (6)： 電気化学 ,  析出 ,  平坦化 ,  プロセス ,  パラメータ ,  依存性