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J-GLOBAL ID：200902212494134399   Reference number：09A0502780

Characterization of carbon film by Raman spectroscopy

Raman分光法による炭素膜の特性評価

Author (5)： IQBAL Tahir (Univ. Gujrat, Gujrat, PAK) ,  SAJJAD Muhammad (Quaid-i-Azam Univ., Islamabad, PAK) ,  IMRAN Muhammad (Univ. Gujrat, Gujrat, PAK) ,  SADIQ Mehboob (National Tokamak Fusion Programme, Islamabad, PAK) ,  ZAKAULLAH Muhammad (Quaid-i-Azam Univ., Islamabad, PAK)
Material： Radiation Effects and Defects in Solids  (Radiation Effects and Defects in Solids: Incorporating Plasma Science and Plasma Technology)
Volume： 164  Issue： 3  Page： 153-161  Publication year： Mar. 2009 
JST Material Number： A0224B  ISSN： 1042-0150  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *vacuum deposition ,  *plasma heating ,  *amorphous semiconductor ,  carbon ,  graphite ,  Raman spectrum ,  *semiconductor thin film ,  ion irradiation ,  *radiation damage ,  surface roughness ,  carbon material ,  amorphous state
Semi thesaurus term： *carbon film ,  amorphous carbon

JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Terms in the title (3)： Raman分光法 ,  炭素膜 ,  特性評価