Art

J-GLOBAL ID：200902212504818526   Reference number：07A0473839

Ion-bombardment characteristics during deposition of TiN films using a grid-assisted magnetron system with enhanced plasma potential

高プラズマ電位のグリッド支援マグネトロンシステムを用いたTiN膜の堆積中におけるイオン照射特性

Author (6)： KUDLACEK P. (Dep. of Physics, Univ. of West Bohemia, Univerzitni 22, 306 14 Plzen, CZE) ,  VLCEK J. (Dep. of Physics, Univ. of West Bohemia, Univerzitni 22, 306 14 Plzen, CZE) ,  HOUSKA J. (Dep. of Physics, Univ. of West Bohemia, Univerzitni 22, 306 14 Plzen, CZE) ,  HAN Jeon G. (Center for Advanced Plasma Surface Technol. (CAPST), Sungkyunkwan Univ., 300 Chunchun-dong, Jangan-gu, Suwon 440-746 ...) ,  JUNG Min J. (Center for Advanced Plasma Surface Technol. (CAPST), Sungkyunkwan Univ., 300 Chunchun-dong, Jangan-gu, Suwon 440-746 ...) ,  KIM Yong M. (Center for Advanced Plasma Surface Technol. (CAPST), Sungkyunkwan Univ., 300 Chunchun-dong, Jangan-gu, Suwon 440-746 ...)
Material： Vacuum
Volume： 81  Issue： 9  Page： 1109-1113  Publication year： May. 25, 2007 
JST Material Number： E0347A  ISSN： 0042-207X  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *magnetron sputtering ,...
Semi thesaurus term： positive electrode ,...

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JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Terms in the title (7)： プラズマ電位 ,  グリッド ,  支援 ,  マグネトロン ,  TiN膜 ,  堆積 ,  イオン照射