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J-GLOBAL ID:200901093715375334   Update date: Sep. 28, 2022

Kawabata Keishi

カワバタ ケイシ | Kawabata Keishi
Affiliation and department:
Homepage URL  (1): http://ttl.cc.it-hiroshima.ac.jp
Research field  (3): Inorganic materials ,  Electronic devices and equipment ,  Electric/electronic material engineering
Research keywords  (6): 無機材料・物性 ,  電子デバイス・機器工学 ,  電子・電気材料工学 ,  Inorganic Material and Properties ,  Electron Devices and Machineries Engineering ,  Electronic and Electrical Materisl Engineering
Research theme for competitive and other funds  (10):
  • X線光電子分光法による薄膜評価
  • スパッタリングによる薄膜形成技術
  • 多重磁極マグネトロンスパッタ装置の開発
  • 高融点金属のスパッタリングに関する研究
  • 薄膜形成技術に関する研究
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MISC (69):
Patents (3):
  • 高機能表面処理Mg系金属とその製造方法
  • 多重磁極マグネトロンスパッタ法
  • マグネトロンスパッタ法
Books (9):
  • Effect of d.c. bias on the deposition rate using r.f.-d.c. coupled magnetron sputtering for SnNx thin films (共著)
    Proc. 5th. Int. Symposium on sputtering and processes 1999
  • XPS profilography through angle resolved spectra(共著)
    Abstracts of ELECTRONICA 1998
  • Textured surface analysis by x-ray photoelectron Spectroscopy(共著)
    Abstracts of ELECTRONICA 1998
  • 電子デバイス-物性からICまで-(共著)
    産業図書 1997
  • Stoichiometry control in r. f. -d. c. Coupled magnetron Sputtering of A(]G0131[)N<sub>x</sub>(共著)
    Proc. 5th. Int. Conf. on Electron Beam Technogies 1997
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Works (6):
  • 多重磁極マグネトロンスパッタ装置の開発
    2001 -
  • Development of magnetron sputtering system with multipolar magnets
    2001 -
  • 透明導電膜の表面改質
    1992 - 1993
  • Surface Improvement of transparent conductive oxide films
    1992 - 1993
  • スパッタリング薄膜の評価
    1990 -
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Education (2):
  • - 1967 Hiroshima Institute of Technology Faculty of Engineering
  • - 1967 Hiroshima Institute of Technology Faculty of Engineering
Professional career (1):
  • Doctor in Engineering (Hiroshima University)
Work history (10):
  • 1981 - 1991 Hiroshima Institute of Technology
  • 1981 - 1991 Hiroshima Institute of Technology, Assistant
  • 1991 - - 広島工業大学 教授
  • 1991 - - Hiroshima Institute of Technology, Professor
  • 1971 - 1981 Hiroshima Institute of Technology
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Committee career (2):
  • 2003 - 応用物理学会中国四国支部 幹事
  • 1998 - 電子情報通信学会中国支部 評議委員
Association Membership(s) (6):
応用物理学会中国四国支部 ,  電子情報通信学会中国支部 ,  American Vacuum Society ,  米国電気電子学会(IEEE:THE INSTITUTE OF ELECTRICAL AND ELECTRONICS ENGINEERS,INC.) ,  電子情報通信学会 ,  応用物理学会
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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