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J-GLOBAL ID：200902150829676951   Reference number：00A0037088

New COCOS(Corona Oxide Characterization of Semiconductor) method for monitoring the reliability of thin gate oxides.

薄いゲート酸化膜の信頼性を監視するための新しいCOCOS(半導体のコロナ酸化特性)法

Author (7)： WILSON M (Semiconductor Diagnostics, Inc., FL) ,  LAGOWSKI J (Semiconductor Diagnostics, Inc., FL) ,  SAVTCHOUK A (Semiconductor Diagnostics, Inc., FL) ,  JASTRZEBSKI L (Univ. South Florida, FL) ,  D'AMICO J (Univ. South Florida, FL) ,  DEBUSK D K (Cirent Semiconductor, FL) ,  BUCZKOWSKI A (Mitsubishi Silicon America, OR)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 3895  Page： 373-384  Publication year： 1999 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (5)： ゲート酸化膜 ,  Cocos ,  コロナ ,  酸化 ,  法