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J-GLOBAL ID：201702218472377906   Reference number：17A0192166

Evaluation of SnS Thin Films Prepared by Thermal Evaporation

真空蒸着法により作製したSnS薄膜の評価

Author (4)： IWASAKI KAZUYA (九大 大学院) ,  NAKAMURA SHIGEYUKI (津山工高専) ,  ARAKI HIDEAKI (長岡工高専) ,  AKAKI YOJI (都城工高専)
Material： 都城工業高等専門学校研究報告  (Research Report of Miyakonojo National College of Technology)
Issue： 51  Page： 22-26  Publication year： Jan. 2017 
JST Material Number： G0388A  ISSN： 0286-116X  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *vacuum deposition ,  tin compound ,  sulfide(chalcogenide) ,  *thin film ,  ratio ,  hydrogen sulfide ,  heat treatment ,  substrate temperature ,  void(crystal) ,  electrical resistivity ,  crystal structure ,  band gap
Semi thesaurus term： tin sulfide ,  *SnS薄膜 ,  膜質 ,  composition ratio

JST classification (2)： Metallic thin films  (BK14030T) ,  Vapor plating  (WC08022K)

Terms in the title (5)： 真空蒸着法 ,  作製 ,  SNS ,  薄膜 ,  評価