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J-GLOBAL ID：201702223222527808   Reference number：17A0211840

Tin Oxide Thin Films Prepared by Ultrasonic Mist Deposition Method

超音波ミスト堆積法による酸化スズ薄膜の作製と評価

Author (12)： SATO SHUNTARO (仙台高専) ,  YAMASHIRO KEISUKE (仙台高専) ,  SUZUKI HAYATO (仙台高専) ,  SHIDA TOMOAKI (仙台高専) ,  SEKI YOSHIYUKI (仙台高専) ,  SASAKI TAKUMI (仙台高専) ,  PAK K. (仙台高専) ,  SEKI SHIGEYUKI (仙台高専) ,  SUENAGA TAKATOSHI (仙台高専) ,  KUMAGAI KOICHI (仙台高専) ,  SATO TOMOAKI (仙台高専) ,  UCHIDA TAKAYUKI (工芸大 院)
Material： Journal of Flux Growth  (J Flux Growth)
Volume： 11  Issue： 2  Page： 163  Publication year： Dec. 09, 2016 
JST Material Number： L7066A  ISSN： 1881-5316  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *tin oxide ,  glass ,  indium tin oxide ,  *transference electrode ,  *thin film growth ,  oxide ,  thin film ,  scanning electron microscope
Semi thesaurus term： smart windows ,  oxide thin film ,  FE-SEM

JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (7)： 超音波 ,  ミスト ,  堆積 ,  酸化スズ ,  薄膜 ,  作製 ,  評価