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J-GLOBAL ID：201702224921846505   Reference number：17A0150256

Dissolved Oxygen Monitor (HD-960L) for Semiconductor Wet Process Performance of the Dissolved Oxygen Monitor Used in the Semiconductor Wet Process; Low Concentration Monitoring, High Temperature, Small Amount of Sampling Volume, Chemical Resistance

半導体薬液用溶存酸素計(HD-960L)低濃度・高温・低流量・耐薬品性を実現した,半導体薬液用の溶存酸素計の特性について

Author (1)： INOUE KENTARO (堀場アドバンスドテクノ)
Material： Readout  (Horiba Technical Reports)
Issue： 47  Page： 57-61  Publication year： Dec. 14, 2016 
JST Material Number： L0745A  ISSN： 0915-9916  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *dissolved oxygen ,  concentration(ratio) ,  *semiconductor process ,  process(production) ,  polarography ,  structure ,  concentration dependence ,  *concentration determination ,  product development
Semi thesaurus term： concentration of dissolved oxygen ,  wet process ,  hydrofluoric acid ,  polarography ,  low concentration ,  electrode architecture ,  concentration measurement

JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Analytical instruments  (CC02020S)

Substance index (1)： Tetramethylammonium hydroxide

Terms in the title (5)： 酸素計 ,  HD ,  低濃度 ,  低流量 ,  耐薬品性