Art

J-GLOBAL ID：201702262764685348   Reference number：17A0189966

Novel Reverse-Offset Printing System Having Sub-Micron Patterning Position Repeatability

サブミクロンパターン形成位置再現性を有する新しい逆オフセット印刷システム

Author (5)： KANG Dongwoo (Korea Inst. of Machinery & Materials, Daejeon) ,  PARK Pyoungwon (Korea Inst. of Machinery and Materials) ,  LEE Eonseok (Korea Inst. of Machinery and Materials) ,  KWON Sin (Korea Inst. of Machinery and Materials) ,  LEE Taikmin (Korea Inst. of Machinery and Materials)
Material： Proceedings of the International Conference on Positioning Technology (CD-ROM)  (International Conference on Positioning Technology (CD-ROM))
Volume： 7th  Page： ROMBUNNO.B2-2  Publication year： 2016 
JST Material Number： W1407B  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Other (ZZZ)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *pattern formation ,  reproducibility ,  position ,  *offset printing ,  *electronics ,  overlay(computer) ,  registration(image)
Semi thesaurus term： *printed electronics

JST classification (1)： Printing technology in general  (ZA05010T)

Terms in the title (4)： 形成位置 ,  再現性 ,  オフセット ,  印刷システム