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J-GLOBAL ID：201702231389010908   Reference number：17A0289858

The CD Control Improvement by Using CDSEM 2D Measurement of Complex OPC Patterns

複素OPCパターンのCDSEM2D測定を用いたCD制御改良

Author (12)： CHOU William (United Microelectronics Corp.) ,  CHENG Jeffrey (United Microelectronics Corp.) ,  LEE Adder (United Microelectronics Corp.) ,  CHENG James (United Microelectronics Corp.) ,  TZENG Alex CP (United Microelectronics Corp.) ,  LU Colbert (Photronics DNP Mask Corp.) ,  YANG Ray (Photronics DNP Mask Corp.) ,  LEE Hong Jen (Photronics DNP Mask Corp.) ,  BANDOH Hideaki (Holon Corp., Ltd.) ,  SANTO Izumi (Holon Corp., Ltd.) ,  ZHANG Hao (Holon Corp., Ltd.) ,  CHEN Chien Kang (Lim Chemical Corp., Ltd.)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 9985  Page： 99851M.1-99851M.9  Publication year： 2016 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *length ,  *mask ,  *quality ,  two dimension ,  error(measure) ,  *measurement ,  fidelity ,  correction(compensation) ,  time
Semi thesaurus term： 書き込み時間 ,  *critical size

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (2)： OPC ,  Cd