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J-GLOBAL ID:201801017983395447   Update date: Apr. 16, 2024

Yao Yongzhao

ヤオ ヨンチャオ | Yao Yongzhao
Affiliation and department:
Research field  (3): Inorganic materials ,  Crystal engineering ,  Crystal engineering
Research keywords  (9): crystal evaluation ,  ワイドギャップ半導体 ,  power device ,  放射光X線トポグラフィー ,  X線・電子線回折 ,  オペランド観察 ,  gallium oxide ,  III-nitride ,  化合物半導体
Research theme for competitive and other funds  (19):
  • 2023 - 2027 実動作中のワイドギャップ半導体パワーデバイスにおける転位の動的な挙動の観察
  • 2023 - 2027 パワーデバイス劣化機構の解明に向けた格子欠陥のオペランド観察技術の開発
  • 2023 - 2024 実動作中のパワーデバイスにおける転位挙動のオペランド観測法の開発
  • 2023 - 2024 β型Ga2O3パワーデバイスにおける結晶欠陥挙動の観測
  • 2022 - 2023 動作中のβ型酸化ガリウムパワーデバイスにおける結晶欠陥挙動のオペランド観測
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Papers (91):
  • Yukari Ishikawa, Yoshihiro Sugawara, Yongzhao Yao, Makoto Miyoshi, Takashi Egawa. Characterization of dislocations induced by Vickers indentation in GaN for explaining size ratios of dislocation patterns. Journal of Materials Science. 2024. 59. 2974-2987
  • Yongzhao Yao, Yoshihiro Sugawara, Kohei Sasaki, Akito Kuramata, Yukari Ishikawa. Anisotropic mechanical properties of β-Ga2O3 single-crystal measured via angle-dependent nanoindentation using a Berkovich indenter【Open Access】. Journal of Applied Physics. 2023. 134. 215106
  • Yongzhao Yao, Yoshiyuki Tsusaka, Keiichi Hirano, Kohei Sasaki, Akito Kuramata, Yoshihiro Sugawara, Yukari Ishikawa. Three-dimensional distribution and propagation of dislocations in β-Ga2O3 revealed by Borrmann effect X-ray topography【Open Access】. Journal of Applied Physics. 2023. 134. 155104
  • Taketo Kowaki, Wataru Matsumura, Koki Hanasaku, Ryo Okuno, Daisuke Inahara, Shunsuke Matsuda, Satoshi Kurai, Yongzhao Yao, Yukari Ishikawa, Narihito Okada, et al. Si Doping Effects in AlGaN Channel Layer on Performance of N-polar AlGaN/AlN FETs. physica status solidi (a). 2023. 220. 2200872
  • Daisuke Inahara, Shunsuke Matsuda, Wataru Matsumura, Ryo Okuno, Koki Hanasaku, Taketo Kowaki, Minagi Miyamoto, Yongzhao Yao, Yukari Ishikawa, Atsushi Tanaka, et al. Investigation of Electrical Properties of N-Polar AlGaN/AlN Heterostructure Field Effect Transistors. Physica Status Solidi (a). 2023. 220. 2200871
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MISC (6):
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Patents (13):
  • 結晶欠陥評価装置、結晶欠陥評価方法、結晶欠陥評価のためのコンピュータプログラムおよびインライン結晶欠陥評価システム
  • 半導体基板の結晶面の形状評価方法および形状評価装置、ならびに、半導体基板の結晶面の形状評価を行うためのコンピュータプログラム
  • 炭化珪素膜の製造方法
  • 転位の評価方法および転位の評価を行うためのコンピュータプログラム
  • 窒化物系半導体の非極性面のエッチング方法および窒化物系半導体の非極性面における結晶欠陥の検出方法
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Lectures and oral presentations  (41):
  • Visualization of structural defects in β-Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub> using synchrotron X-ray techniques for power-device application
    (2024)
  • Synchrotron-radiation X-ray topographic and X-ray reticulographic observation of AlN single-crystal substrates
    (2023)
  • Observation of dislocations in thick GaN substrates using synchrotron-radiation X-ray topography based on anomalous transmission
    (2023)
  • Operando and ex-situ X-ray topographic observation of dislocations in β-Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub> Schottky barrier diodes and their glide and multiplication under device operation
    (2022)
  • Dislocation analysis for large-area thick EFG β-Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub> substrates using Borrmann effect synchrotron x-ray topography
    ((ORAL) IWGO-4 (The 4th International Workshop on Gallium Oxide and Related Materials), Nagano, Japan, Oct 23-27, 2022 2022)
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Education (3):
  • 2004 - 2007 University of Tsukuba
  • 2001 - 2004 中国清華大学大学院 電気電子工学研究科 電気電子工学専攻(修士号取得)
  • 1997 - 2001 中国清華大学 電気電子工学部 電気電子工学専攻(学士号取得)
Professional career (1):
  • 博士(工学) (筑波大学)
Work history (7):
  • 2024/04 - 現在 Mie University
  • 2023/06 - 2024/03 Japan Fine Ceramics Center
  • 2021/07 - 2023/05 (一財)ファインセラミックスセンター 主任研究員
  • 2018/05 - 2023/03 National Institute for Materials Science
  • 2009/06 - 2021/06 Japan Fine Ceramics Center
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Committee career (8):
  • 2024/04 - 現在 文部科学省 科学技術予測・政策基盤調査研究センター 科学技術専門家ネットワーク・専門調査員
  • 2024/04 - 現在 SPring-8/SACLA成果審査委員会査読者
  • 2022/11 - 現在 国際会議SSDM 2023 Technical Program Committee
  • 2022/09 - 現在 国際会議DRIP International Steering Committee
  • 2020/02 - 2023/09 国際会議DRIP XIX 実行委員
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Awards (15):
  • 2023/04 - 公益財団法人 池谷科学技術振興財団 2023年度 研究助成
  • 2022/12 - 公益財団法人 日立財団 2022年度(第54回)倉田奨励金
  • 2022/10 - 公益財団法人 住友財団 2022年度 基礎科学研究助成
  • 2021/11 - 公益財団法人 大倉和親記念財団 2021年度 研究助成
  • 2021/07 - 公益社団法人 日本セラミックス協会 第46回 学術写真賞 優秀賞
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Association Membership(s) (6):
THE JAPAN SOCIETY OF APPLIED PHYSICS ,  フォトンファクトリー同窓会 ,  X線トポグラフィ研究会 ,  KEK-PF User Association ,  SPring-8 Users Community ,  先進パワー半導体分科会
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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