研究者

J-GLOBAL ID：200901003931892107 更新日: 2024年01月30日

本保栄治

ホンボエイジ | Honbo Eiji

所属機関・部署：
職名：課長

研究分野 (3件)：無機材料、物性 , 電気電子材料工学 , 薄膜、表面界面物性

研究キーワード (5件)：電気物性 , 薄膜 , 光デバイス , thin film , optical device

競争的資金等の研究課題 (5件)：

2005 - 2007 ナノコンポジット複合機能膜の形成機構解明とそれを応用した金属加工の新しい展開
2000 - 2003 プラズマによる機能性薄膜
薄膜の光学的応用
Thin film deposition by plasma process
Optical applications of thin film

論文 (8件)：

M Nose, Y Deguchi, E Honbo, WA Chiou, T Mae, K Nogi. Influence of target material on the microstructure and properties of Ti-Si-N coatings prepared by r.f.-reactive sputtering. MATERIALS TRANSACTIONS. 2005. 46. 8. 1911-1917
野瀬正照, 鈴木宏章, 奥村善雄, 本保栄治, 前健彦, 穴田博, 野城清. 反応性スパッタ法によるTi-Al-Si-Nナノコンポジット膜の作製. 粉体および粉末冶金. 2004. 51. 11. 802-807
M Nose, Y Deguchi, T Mae, E Honbo, T Nagae, K Nogi. Influence of sputtering conditions on the structure and properties of Ti-Si-N thin films prepared by r.f.-reactive sputtering. SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY. 2003. 174. 261-265
Y.Sakamaoto, M.Nose, T.Mae, E.Honbo, M.Zhou, K.Nogi. Structure and properties of Cr-B, Cr-B-N and multilayer Cr-B/Cr-B-N thin films prepared by r.f.-sputtering. Surface and Coatings Technology. 2003. 174-175. 444-449
E Honbo, M Miyata, T Ueno, Y Kato, S Ishii. Preparation of TiO2 thin films by sputtering applying electron cyclotron resonance plasma produced in arched magnetic mirrors. VACUUM. 2002. 66. 3-4. 263-267

もっと見る

学位 (2件)：

理学修士 (新潟大学)
博士(工学) (富山県立大学)

経歴 (1件)：

2021 - 現在富山県産業技術研究開発センターものづくり研究開発センター

所属学会 (2件)：

日本応用物理学会 , 日本セラミックス協会

※　J-GLOBALの研究者情報は、researchmapの登録情報に基づき表示しています。登録・更新については、こちらをご覧ください。

前のページに戻る

TOP

BOTTOM