研究者
J-GLOBAL ID：200901004223661630   更新日: 2024年03月02日

渡邊 健夫

ワタナベ タケオ | Watanabe Takeo
所属機関・部署：
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 極端紫外線リソグラフィー研究開発センター

兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 極端紫外線リソグラフィー研究開発センター について


職名： 教授
ホームページURL (2件)： http://www.lasti.u-hyogo.ac.jp ,  https://www.lasti.u-hyogo.ac.jp/english/index.html
研究分野 (2件)： 電子デバイス、電子機器 ,  光工学、光量子科学
研究キーワード (2件)： 電子デバイス・機器工学 ,  応用光学・量子光工学
競争的資金等の研究課題 (11件)：
  • 2015 - 2018 軟X線領域の薄膜の光学定数の精密測定
  • 2013 - 2016 高感度且つ低LWRを有する1Xnm級EUVレジストの開発
  • 2010 - 2012 EUV 干渉露光による 20nm以下の極微細パタン形成
  • 2003 - 2005 極端紫外域での位相差型X線顕微鏡による表面微細構造観察
  • 1999 - 2001 薄膜堆積法によるX線光学素子用非球面形状の創製
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論文 (305件)：
  • Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe. The X-ray absorption spectroscopy analysis of the negative-Tone PAG bound resist. Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering. 2023. 12750
  • Yosuke Ohta, Atsushi Sekiguchi, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto. Comparison of Photoresist Sensitivity between KrF, EB and EUV Exposure. Journal of Photopolymer Science and Technology. 2022. 35. 1. 49-54
  • Tomohito Kizu, Shinji Yamakawa, Takeo Watanabe, Seiji Yasui, Tomoyuki Shibagaki. Development of Selenonium PAGs in EUV Lithography toward High Sensitivity Achievement. Journal of Photopolymer Science and Technology. 2022. 35. 1. 55-59
  • Atsunori Nakamoto, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe. Grazing-Incidence Soft-X-ray Scattering for the Chemical Structure Size Distribution Analysis in EUV Resist. Journal of Photopolymer Science and Technology. 2022. 35. 1. 61-65
  • Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Shinji Yamakawa. R&D Activities of EUV Lithography at NewSUBARU, and Possibility of Beyond EUV. Optics InfoBase Conference Papers. 2022
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MISC (194件)：
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特許 (35件)：
  • 感光性樹脂及び感光性組成物
  • Photosensitive Resin, and Photosensitive Composition
  • 形状測定装置
  • 短波長コヒーレント光源及び透過型の減光機構
  • 感光性樹脂及び感光性組成物
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書籍 (27件)：
  • CRDS 研究開発の俯瞰報告書ナノテクノロジー・材料分野
    国立研究開発法人 科学振興機構 編 2023
  • フォトレジストの最先端技術
    CMC出版 2022
  • 基礎研究および産業利用を推進する放射光施設「ニュースバル」
    文門科学教育通信 文部科学省 2022
  • CRDS 研究開発の俯瞰報告書ナノテクノロジー・材料分野
    国立研究開発法人 科学振興機構 編 2021
  • UV・EB硬化の最新開発動向
    CMC出版 2021
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講演・口頭発表等 (882件)：
  • EUVリソグラフィおよびレジスト・フォトマスクの概要、Beyond EUVLへの将来展望 ~目指すべき半導体業界の将来像~
    (「EUVリソグラフィ」AndTech WEB講習会(オンライン) 2023)
  • Technical issue of EUVL, prospect for EUVL and beyond EUVL
    (IEUVI Resist TWG Workshop 2023 (online))
  • EUVリソグラフィ技術開発の現状およびその取り巻く環境、今後の展開
    (第253回フォトポリマー懇話会講演会 先端・次世代リソグラフィ技術(オンライン) 2023)
  • EUVリソグラフィー技術開発の現状および今後の展開について
    (第70回応用物理学会春季学術講演会シンポジウム マイクロ・ナノスケール微細加工の表面界面先端技術)
  • ニュースバルにおけるEUVL基板技術開発の現状と今後の展開
    (ニュースバルシンポジウム2023 2023)
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Works (3件)：
  • EUVリソグラフィ用レジスト材料の研究開発
    1993 - 現在
  • EUVリソグラフィの研究
    渡邊健夫 1993 - 現在
  • X線縮小露光評価技術の研究開発
    1999 - 2001
学歴 (1件)：
  • 1987 - 1990 大阪市立大学 理学研究科後期博士課程 物理学専攻
学位 (1件)：
  • 理学博士 (大阪市立大学)
経歴 (18件)：
  • 2023/04 - 現在 兵庫県立大学 学長特別補佐(先端研究担当)
  • 2023/04 - 現在 兵庫県立大学 産学連携・研究推進機構 放射光産業利用支援本部 本部長代行
  • 2022/04 - 現在 兵庫県立大学 学長特別補佐(先端科学技術・異分野融合研究推進)
  • 2022/04 - 現在 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 所長特別補佐
  • 2015/04 - 現在 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 極端紫外線リソグラフィー研究開発センター センター長
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委員歴 (37件)：
  • 2022 - 現在 兵庫県「次世代電池・半導体技術開発拠点推進協議会」 座長
  • 2022 - 現在 International Conference on Photopolymer Science and Technology President
  • 2021 - 現在 一般社団法人 日本半導体製造協会 会員
  • 2019/04 - 現在 Photomask Japan Conference chair
  • 2018 - 現在 International Conference on Photomask Japan Conference Chair and Chair of the Organizing Committee
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受賞 (6件)：
  • 2023/04 - International Conference of Photopolymer Science and Technology Outstanding Contributions A ward
  • 2022/07 - 研究活動教員表彰 最優秀賞
  • 2016/05 - ニュークリアサイエンス協会 ニュークリアサイエンス協会賞 放射光を利用したレジストの開発に関する研究
  • 2013/06 - International Workshop on EUV Lithography Best Paper Award R&D of EUV Lithography
  • 2008/06 - International Workshop on EUV Lithography Best Poster Award 1st Place EUV interference lithography employing 11-m long undulator as a light source
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所属学会 (11件)：
日本化学会 ,  一般社団法人 次世代日本半導体製造協会 ,  高分子学会 ,  日本放射光学会 ,  日本応用物理学会 ,  Society of Photopolymer Science and Technology (SPST) ,  International Conference on Photomask Japan (PMJ) ,  Opitical Society of America (OSA) ,  The International Society for Optics and Photonics (SPIE) ,  Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE) ,  日本物理学会
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